【尼康即将发布新型ArF浸没式扫描仪 整体生产率提高10-15%】《科创板日报》7日讯，尼康宣布将于2024年1月起发布ArF浸没式扫描仪NSR-S636E，作为关键层的曝光系统，该系统具有公司历史上最高的生产率，并具有高水平的套印精度和吞吐量。尼康声称，它较以往更高的精度测量晶圆翘曲、扭曲和其他变形，并实现了高重叠精度（MMO ≤ 2.1 nm）。此外，吞吐量已增加至每小时280发，并且通过减少停机时间，与当前型号相比，整体生产率提高了10-15%，已达到该司半导体光刻设备中最高的生产率水平。