上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公开
11月28日讯,上海微电子装备(集团)股份有限公司(下文简称:上海微电子)今日公开了其最新的光刻机相关专利。
据天眼查显示,上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”。
该专利摘要显示,本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机,所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括:第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。
其中,所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称,所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称,所述投影物镜光学系统是对称结构,且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度,以此可以在提高成像质量的基础上,增大曝光系统的视场尺寸,提升产率。
从上海微电子的主要股东信息来看,A股上市公司上海电气持有公司42.3%的股份,张江高科全资子公司上海张江浩成创业投资有限公司持有公司14.21%股份,
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