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半导体材料系列报告二:光刻胶:图像转移媒介 关注进口替代进程

广发证券股份有限公司 2020-10-22

光刻胶是利用化学反应转移图像的媒体。光刻胶又称光致抗蚀剂,包括主要成分和溶剂两部分。根据富士经济数据,光刻胶主要使用的溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯(PMA),占光刻胶含量约为80%-90%。主要成分包含树脂、单体、光引发剂及添加助剂四类,其中,树脂含量约占主要成分的50%~60%,单体含量约占35%~45%(王海霞,《中国集成电路用化学品发展现状》)。根据应用领域不同,光刻胶分为PCB 光刻胶、面板光刻胶和半导体光刻胶。

市场持续扩容,国内增速远高于全球。根据前瞻产业研究院数据,2018年全球光刻胶市场规模约87 亿美元,2010 年至今,年均复合增长率(CAGR)约5.4%,预计未来3 年仍以年均5%的速度增长,2022 年全球光刻胶市场规模将超过100 亿美元。根据雅克科技(2020 年2 月27 日)公告数据,2018 年国内光刻胶市场规模约72.8 亿元,2011-2018年均复合增长率(CAGR)达11.59%,远高于全球约5%的市场增速。

日本巨头垄断高端品种,低端市场进口替代率先打开缺口。半导体光刻胶领域,日本企业总体占据超过70%市场份额,日企的垄断程度随着光刻胶高端化而逐步加深。根据富士经济数据,日企在g /i 线、KrF、ArF胶市占率分别为61%、80%、93%,呈现高度寡头垄断格局。面板光刻胶领域,随着LG 化学彩胶业务出售给雅克科技,外加晶瑞股份、飞凯材料等企业面板光刻胶技术产业化进程的持续推进,国内厂商在面板彩色光刻胶领域已实现部分替代。PCB 光刻胶领域,由于技术要求较低,相对应产品的国产化渗透率较高。以容大感光、广信材料为首的内资企业在国内PCB 市场中占据50%以上的市场份额。

产业链相关标的梳理。光刻胶技术壁垒高,在所有半导体材料中进口替代空间最大。凭借多年的技术与客户积累,国内厂商在部分光刻胶领域已逐渐崭露头角。切入半导体光刻胶的国内公司:晶瑞股份(g /i 线、KrF)、南大光电(ArF)、上海新阳(g /i 线、KrF、ArF)、北京科华(g/i 线、KrF、ArF)、北旭电子(g /i 线)等。切入面板光刻胶的国内公司:

雅克科技、飞凯材料、容大感光、晶瑞股份、永太科技、北京欣奕华等。

切入PCB 光刻胶的国内公司:广信材料、容大感光等。

风险提示。国内集成电路产业发展不及预期;研发能力不足导致国产化替代不及预期;关键原材料采购困难的风险。

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