摘要：

我们在本篇报告中详细介绍了苏大维格公司的核心技术及其在多领域的产业化创新应用。从公司自主研发的核心激光设备，到全球领先的卷对卷纳米压印设备制程，公司成功开发了适用于批量化、低成本生产的高质量微纳光学系列产品。

苏大维格的核心技术和核心竞争力主要在于：

1、自制高端激光光刻设备，设备水平处于国内领先和国际先进水平，在微纳图形和结构制造领域具有核心竞争力；利用激光设备，运用LIGA 电铸工艺制备纳米压印模具，采用卷对卷先进制程利于批量化生产；

2、优质的产品是由先进的设备、完善的工艺共同保证的，公司在设备研发、制造方面的丰富经验为微纳光学制造技术规模化应用提供了有针对性的技术基础。新产品新技术的开发对关键设备研制提出了新的要求，使得公司具有从设备到工艺再到最终产品的全方位竞争优势；

3、公司研发实力领先，董事长陈林森为我国微纳光学领军人物，两次获得国家科技进步二等奖，研发团队拥有多名博士及含光学、机械、电子、计算机、材料学等多学科专业人才共计约70 人，团队稳定高效，战斗力不凡。所有这些，造就了苏大维格“创新驱动未来，小公司孕育大产业”的能量与潜力。

产业化方面，公司公共安全防伪材料通过新版驾驶证和行驶证的光学防伪方案设计与制造占据国内领先地位；同样，公司可大幅面快速制作的激光设备和卷对卷的纳米压印工艺，使得公司拥有大幅面的防伪光学包装材料制造能力，成为业界领先；此外，公司超薄导光膜已在诺基亚、中兴等最新智能手机得以应用，革命性创新的非ITO 透明导电膜即将在蓬勃发展的触摸屏领域展开颠覆性应用。

在未来新型照明及显示业务和新型透明导电膜业务高速成长的驱动下，预计公司2012 年-2014 年营收增长分别为8%，38%和44%，净利润增长3%、61%和55%。我们给予按公司2013 年每股收益1.09 元的30 到35 倍PE 估值区间，公司合理股价在32.7 元~38.2 元。相较于当前公司27.8 元的股价，仍有15%~35%的上涨空间，维持“强烈推荐”评级。