本期投资提示:
荷兰政府扩大光刻机出口管制范围,限制1980i DUV 光刻机出口。9 月6 日,根据ASML 官网,荷兰政府公布了浸润式DUV 光刻机出口新规,自9 月7 日起生效,生效后ASML 需要向荷兰政府申请出口许可证才能出口发运型号为TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV 光刻机。
年初荷兰政府已限制2000i 及更先进型号出口。2023 年6 月30 日,荷兰政府正式颁布了有关先进半导体设备的额外出口管制的新条例,计划于2023 年9 月1 日生效,最终实际于2024 年1 月1 日起正式生效,荷兰政府限制ASML 最先进的几款浸润式DUV 光刻机(即TWINSCAN NXT:2000i 及更先进的浸润式DUV 光刻机型号),需要政府许可证才能发运。
国内部分重点晶圆厂年初起已无法获得1980i 光刻机。根据今年1 月24 日ASML4Q23 业绩说明会,ASML 首席财务官Roger Dassen 表示个别中国先进芯片制造晶圆厂将无法获得发运NXT:1970i 和 NXT:1980i 浸没式DUV 设备的许可证。因此,此次扩大出口管制范围实际措施增量影响相对有限。
1H24 中国大陆在ASML 营收占比高达49%,对ASML 重要性不容小觑。ASML2Q24 中国大陆设备销售收入占比维持49%的历史最高比例,对应设备销售23.3 亿欧元同比增73.4%、环比增20.0%,接近3Q23 最高位,对于ASML 而言,中国大陆作为重要营收来源,荷兰政府若严格收紧出口政策或将导致ASML 业绩受到较大影响。
荷兰首相强调“特别关注ASML 的经济利益”。根据央视新闻报道,关于半导体设备出口问题,荷兰首相迪克·斯霍夫近日表示:“我们正进行良好的谈判。我们也正特别关注ASML 的经济利益,这些利益需要与其他风险权衡,而经济利益是极其重要的”,“对荷兰来说,ASML 是一个极其重要的创新产业,在任何情况下都不应该受到影响,因为这将损害ASML 的全球地位。”
预计国内技术研发进展与国际环境优化相伴相生,国内晶圆厂先进制程扩产节奏有望提速。AI 芯片、消费电子对先进制程需求旺盛,国内晶圆厂先进制程扩产空间巨大,核心设备的取得、晶圆厂制造工艺的进步,是影响扩产速度的最关键因素。预计未来光刻机贸易、国内技术进步都可以更加乐观,预计国内晶圆厂先进制程扩产节奏未来几年有望超市场预期。
投资分析意见:国内晶圆厂先进制程扩产,自主可控趋势下国产半导体设备最受益。重点关注各细分领域市占率及技术水平相对占优半导体设备公司:北方华创(薄膜沉积、刻蚀、清洗设备、热处理等),中微公司(刻蚀、薄膜沉积等),中科飞测、精测电子(前道检测量测设备),拓荆科技(薄膜沉积、键合设备等),芯源微(涂胶显影、清洗设备等)。
风险提示:国内设备厂商研发进程不及预期;国内晶圆厂扩产进度不及预期。