本报告导读：

公司发布24Q3 业绩预报，业绩超预期，Q3 单季度营业收入达74.2~85.4 亿元，归母净利润达 15.6~17.9 亿元，公司同步拓展先进制程关键设备，看好公司长期发展。

投资要点：

维持增持评级，上调目标价至 495.6 元。公司为半导体设备龙头，充分受益于晶圆代工厂扩产及国产渗透率提升。公司订单饱和，收入实现高增长， 我们上调公司2024-2026 年EPS 业绩为11.80/15.48/22.21（原值10.52/14.75/21.18）元。参照行业估值41.7xPE，考虑公司为半导体前道设备龙头，核心产品刻蚀设备、薄膜沉积、清洗设备占前道设备资本开支合计接近50%，同步布局CVD、ALD、刻蚀设备等先进制程关键设备，市场空间广阔，给予公司2024年42 x PE，上调目标价至495.6 元，维持增持评级。

公司24Q3 业绩水平超预期，营收和净利润持续高增。公司发布2024Q3 业绩预告，营收、净利润持续高速增长，预计公司24 年前三季度营收达188.30~216.80 亿元，同比+29.08%~48.61%；归母净利润41.3~47.5 亿元，同比+43.19%~64.69%；扣非归母净利润39.50~45.40 亿元，同比+49.62%~71.97%。三季度公司业绩持续提升，取营收、净利润中间值，预计公司3Q24 营收79.8 亿元，同比+29.5%，环比+23.2%；归母净利润16.75 亿元，同比大增54.4%，环比+1.3%，主要得益于：1）公司订单饱和，订单转化度高；2）丰富产品矩阵，在先进制程渗透率提升。

公司作为平台型设备公司，充分受益于国产替代浪潮。在薄膜沉积领域，公司突破PVD、CVD 和ALD 等多项核心技术，截至2024 年H1，公司成功研发出高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）、立式炉原子层沉积、高介电常数原子层沉积等多款具有自主知识产权的高端设备，并在多家客户端实现稳定量产。刻蚀领域，公司产品覆盖ICP、CCP、TSV、等离子去胶等关键领域，公司CCP 介质刻蚀设备实现了逻辑、存储、功率半导体等领域多个关键制程的覆盖，成功研发出双大马士革 CCP 刻蚀机，在多家客户实现稳定量产。随着下游晶圆厂持续扩产及半导体设备国产替代浪潮，公司作为半导体龙头，将持续受益。

催化剂：晶圆厂扩产积极；公司新品突破

风险提示：市场需求不及预期；公司产品验证不及预期