投资要点：

国内薄膜沉积设备领军者，业绩持续稳定增长拓荆科技成立于2010 年，公司凭借多年的自主研发经验和技术积累，现已拥有多项具有国际先进水平的核心技术，形成了以PECVD、ALD、SACVD 及HDPCVD 为主的薄膜设备系列产品，在集成电路逻辑芯片、存储芯片制造等领域得到广泛应用。2023 年公司业绩持续稳定增长，营业收入达27.05 亿元，同比增长58.60%，归母净利润达6.6亿，销售毛利率达51.01%，同时公司在手订单充足，23 年在手订单量超过64 亿元。

半导体设备行业景气度有望回升，未来前景广阔全球半导体设备规模随5G、AI 等新兴技术的崛起不断扩大，2023年受下游芯片周期疲软和终端库存过高的影响市场规模有所下降，预计2024 年需求回暖，市场规模同比增长4%。中国大陆半导体市场不断扩大，在终端市场的拉动下，伴随着我国对半导体产业政策扶持，中国大陆半导体产业发展迅速，在半导体技术迭代创新、产业生态等方面均形成良好效果。

公司大力投入研发，持续丰富产品线

公司持续保持高强度研发投入，目前PECVD 产品可以实现全系列PECVD 薄膜材料覆盖，包括通用介质薄膜（SiO2、SiN、TEOS、SiON、SiOC、FSG、BPSG、PSG 等）及先进介质薄膜（LoKI、LoKII、ACHM、ADCI、HTN、a-Si、ONO 等）；公司研制的PE-ALD 设备已经实现量产，可以沉积SiO2 、SiN 等介质薄膜材料；Thermal-ALD 设备已经出货至不同客户端进行验证，可以沉积AL2 O3 等金属及金属化合物薄膜。公司持续扩大PECVD、ALD 等产品的工艺覆盖面，并根据客户需求持续创新、提升性能指标，公司薄膜设备产品已获得客户的大量订单。

盈利预测与投资建议

我们选取A 股半导体设备板块同行业公司北方华创、中微公司、盛美上海、华海清科作为可比公司，当前可比公司PS 估值为10/7/6倍，其PE 估值为41/31/24 倍。我们预计公司将在24-26 年实现营业收入38/49/62 亿元， 对应当前PS 估值11/8/6 倍， 实现归母净利润7.6/10.2/13.2 亿元，对应当前PE 估值53/39/30 倍。我们看好公司受益于薄膜沉积设备的国产化，同时有望受益于混合键合等新设备的发展。

首次覆盖，给予“买入”评级。

风险提示

产品验收周期较长风险，市场竞争风险，技术创新风险，晶圆厂扩产不及预期的风险。