营收持续增长，净利润同比下滑主要受投资收益减少、研发投入高增等影响：公司预计2024 年实现收入90.7 亿元，同比+44.7%；其中刻蚀设备销售约72.8 亿元，同比+54.71%，MOCVD 设备销售约3.8 亿元，同比-18.1%，LPCVD 薄膜设备2024 年实现销售约1.56 亿元。营收显著增长主要得益于公司高端刻蚀设备付运量显著提升，LPCVD、ALD 等新产品形成重复订单，其中LPCVD 2024 年累计出货超100个反应台。公司预计实现规模净利润15.0-17.0 亿元，同比下降16.0-4.8%，主要系公司研发投入显著增加，研发支出同比+94.1%，以及2023 年同期基数较高（公司出售拓荆科技股权收益4.06 亿元）；预计期间扣非净利润为12.8-14.3 亿元，同比+7.4%-20.0%。2024Q4 公司预计实现收入35.6 亿元，同比+73.0%；归母净利润5.9-7.9 亿元，同比-6.2%至+25.7%，归母净利润中值为6.9 亿元，同比+9.7%；扣非净利润4.7-6.2 亿元，同比+2.0%至+34.7%，扣非净利润中值为5.4 亿元，同比+17.9%。

Q4 盈利能力受研发投入高增影响有所下降：24Q4 公司营收和毛利润预告对应的毛利率为42.8%，同比-3.0pct/环比-0.9pct；营收和归母净利润预告中值对应的归母净利率为19.4%，同比-8.7pct/环比+0.2pct；营收和扣非净利润预告中值对应的扣非净利率为15.2%，同比-5.4pct/环比-0.8pct。

刻蚀产品持续领先，镀膜产品拓展顺利：（1）CCP 设备：在逻辑领域已对28nm 以上的绝大部分CCP 刻蚀应用和28nm 及以下的大部分CCP 刻蚀应用形成较为全面的覆盖，且已有大量机台进入国际5nm 及以下逻辑；截止2024Q3 已交付3800 个反应台。在存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60：1 深宽比结构的能力，成功进入2D&3D 存储芯片产线。同时，公司积极布局超低温刻蚀技术，积极储备≥90:1 深宽比刻蚀技术。（2）ICP 设备：Primo Nanova ICP 在客户端安装腔体数量近三年CAGR 超70%，在先进逻辑芯片、DRAM 和3D NAND 产线验证推进顺利并取得客户批量订单。公司的TSV 刻蚀设备也已应用于先进封装。此外，公司正在研发用于5-3nm 逻辑芯片的ICP 刻蚀机。（3）MOCVD 设备：积极布局第三代半导体设备，现已在LED 等GaN 基设备市场占据领先地位，并在Micro-LED 领域的MOCVD 设备开发上取得良好进展。用于SiC 器件的外延设备已付运样机至国内领先客户开展验证测试。（4）薄膜沉积设备：公司首台CVD 钨设备付运到关键存储客户端验证评估，已通过客户现场验证，并获得客户重复量产订单，公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD 氮化钛设备也在稳步推进；EPI 设备也已完成多家先进逻辑器件与MTM 器件客户的工艺验证，并获得了客户的高度认可。

成立成都子公司，大力发展CVD、ALD 等关键设备研发与生产：公司计划于2025-2030 年期间投资约30.5 亿元成立成都子公司，建设研发中心、生产基地及配套设施。该项目将主要用于开展CVD、ALD 及其他关键设备的研发与生产工作，预计2030 年年销售额将达10 亿元。

盈利预测与投资评级： 我们维持公司2024-2026 年归母净利润预测分别为16.8/24.3/34.0 亿元，当前市值对应动态PE 分别为35/26/20 倍。基于公司较高的成长性，维持“买入”评级。

风险提示：晶圆厂扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期等。