海通证券:玻璃基板有望成为载板未来发展趋势 关注行业国产进程
海通证券发布研报称,随着封装基板向大尺寸、高叠层方向发展,封装芯片存在的翘曲问题日渐突出。玻璃基板凭借其与硅芯片良好的CTE匹配度,能有效对抗封装过程中的翘曲问题,玻璃基板是封装基板未来的技术发展趋势。受益于先进封装下大尺寸AI算力芯片更新迭代,玻璃基板产业链有望迎来加速成长。建议关注:沃格光电(603773.SH)、兴森科技(002436.SZ)。
海通证券主要观点如下:
IC载板是芯片封装环节的核心材料,玻璃基板有望成为载板未来发展趋势
IC封装基板不仅为芯片提供支撑、散热和保护作用,同时在芯片与PCB之间提供电子连接,起着“承上启下”的作用。2023年全球传统ABF载板市场规模为507.12亿元。英特尔认为玻璃基板是载板未来发展趋势,在本世纪20年代末,将发生由有机基板向玻璃基板的转变。玻璃基板并不意味着用玻璃取代传统载板中的所有有机材料,而是载板的核心层采用玻璃材质。对于核心层上下两端的增层部分而言,依然可以使用ABF进行增层。
玻璃基板有望解决封装基板向大尺寸、高叠层持续迈进下出现的翘曲问题
先进封装下高端算力芯片及相应载板面积持续增大。根据台积电技术路线,其正在开发制造超大尺寸中介层的方法,计划至2027年中介层可以达到光罩极限的8倍以上,载板面积将超过120mm×120mm。大尺寸封装下,硅芯片、载板不同组成部分间CTE差异将极易发生翘曲现象,而相对于有机材料,玻璃CTE更接近于硅,能有效对抗封装过程中的翘曲。
TGV玻璃成孔及孔内金属填充是玻璃基板生产的关键工艺
TGV(Through Glass Via,玻璃通孔)能够在玻璃基板上形成微小的导电通孔,从而实现芯片间的高效连接。TGV是生产用于先进封装玻璃基板的关键工艺。TGV主要流程可分为玻璃成孔、孔内金属填充两大环节。TGV玻璃成孔环节中激光诱导湿法刻蚀技术具备大规模应用前景。TGV孔径较大,多为通孔,而且由于玻璃表面平滑,与常用金属(如 Cu)的黏附性较差,容易造成玻璃衬底与金属层之间的分层现象,导致金属层卷曲甚至脱落等现象,提高金属层与玻璃表面的粘附性是产业目前的研究重点。
风险提示:全球宏观经济增长不及预期,云厂商资本开支不及预期,国产厂商玻璃基板研究进程不及预期。
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