【韩国SKMP开发出高厚度KrF光刻胶 可助力3D NAND闪存制造】《科创板日报》28日讯，韩国SK集团子公司SK Materials Performance（SKMP）已开发出一种高厚度KrF光刻胶，并通过了SK海力士的性能验证，这将有利于SK海力士3D NAND闪存的技术开发。据悉，SKMP开发的新型KrF光刻胶厚度为14~15微米，与东进半导体向三星供应的产品类似，而日本JSR公司的类似产品厚度仅为10微米。